சவ்வு அறிவியல் & தொழில்நுட்ப இதழ்

சுருக்கம்

நானோஃபில்ட்ரேஷன் சவ்வுகளால் ஆர்சனைட் [As (III)] நிராகரிப்பில் ஃபவுலண்ட் அடுக்குகளின் விளைவு

முஸ்தபா சாபனே மற்றும் பெனாமர் தஹ்மானி

நானோ வடிகட்டுதல் சவ்வுகளால் ஆர்சனைட் இனங்களின் நிராகரிப்பு திறனில் சவ்வு கறைபடிந்ததன் விளைவு இந்த ஆராய்ச்சியில் ஆராயப்பட்டது. இரண்டு நானோ வடிகட்டுதல் சவ்வுகள் (DESAL DL மற்றும் N30F) ஹ்யூமிக் அமிலம் உட்பட பல்வேறு சேர்மங்களால் கறைபட்டன; சோடியம் ஆல்ஜினேட், கூழ் சிலிக்கா மற்றும் CaSO4 மற்றும் 6 மற்றும் 11 இடையேயான pH வரம்பில் இருந்து As (III) இன் ஃப்ளக்ஸ் சரிவு மற்றும் சவ்வு நிராகரிப்பு செயல்திறனை மதிப்பீடு செய்வோம். சவ்வு மற்றும் As (III) என்பது MWCO, கடினத்தன்மை, ஹைட்ரோபோபிக்/ஹைட்ரோஃபிலிக் தன்மை மற்றும் வெவ்வேறு pH மதிப்புகளில் மேற்பரப்பு மின்னூட்டத்தின் மாறுபாடு போன்ற சவ்வுகளின் பண்புகளின் வேறுபாடுடன் தொடர்புடையது. ஊட்டம் மற்றும் ஊடுருவல் கரைசலில் As (III) நிராகரிப்பைக் கண்காணிப்பது, ஒவ்வொரு வகை ஃபவுலண்டுகளைப் பொறுத்து ஊடுருவும் பாய்வின் வீழ்ச்சியையும் ஆர்சனிக் நிராகரிப்பின் அதிகரிப்பையும் முன்வைக்கும். கறைபடிந்த அடுக்குகள் வழியாக ஆர்சனைட்டின் போக்குவரத்தை தீர்மானிக்க ஃபவுலண்ட்களின் பண்புகள் ஒரு முக்கிய காரணியாக கண்டறியப்பட்டது. N30F மென்படலத்துடன் ஒப்பிடும்போது, ​​சவ்வு DESAL DLக்கான ஆர்சனைட் அயனிகளின் உயர் நிராகரிப்பு மதிப்புகளை முடிவுகள் காட்டுகின்றன. 6 முதல் 11 வரை உள்ள pH வரம்பிற்கு, ஹ்யூமிக் அமிலத்தை ஃபவுலண்ட் பொருளாகப் பயன்படுத்துவது மற்ற சேர்மங்களுடன் ஒப்பிடும்போது As (III) இன் உயர் நீக்கும் திறனை அளிக்கிறது, pH=11 இல் நிராகரிப்பின் மிக உயர்ந்த மதிப்புகள் 90% மற்றும் சவ்வு DESAL DL மற்றும் 37. N30F சவ்வுக்கான %. ஆர்சனைட் அஸ் (III) இன் அளவு விலக்கும் பொறிமுறையானது DESAL DL சவ்வுக்கான பிரதானமானது என்று கண்டறியப்பட்டுள்ளது.